A Study of Thin Film Characteristics of High-K Oxide (Gd(feaf)O(feb0)) on Silicon Wafer
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- 資料識別：
- A08007156
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 柯鴻禧(Ko， Hong-hsi) 陳世濃(Chen， Shih-nung) 張鴻源(Jang， Horng-yuan) 陳俊良(Chen， Chun-liang)
- 主題與關鍵字：
- 釓金屬氧化物薄膜 崩潰電場強度 陽極氧化法 矽-釓化合物 Gd oxide film Breakdown electric field Anodic oxide Gd-silicide Thermal oxidation
- 描述：
- 來源期刊:南開學報
- 卷期:3:1 民94.03
- 頁次:頁57-63
- 日期：
- 20050300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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