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在MgO緩衝層以射頻濺鍍法製備La(feb0)Ga(8fa3)SiO(fed8)薄膜與特性之研究
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資料識別:
A08006981
資料類型:
期刊論文
著作者:
胡毅(Hu, Yi) 王逢偉(Wang, Feng-wei) 林和龍(Lin, Hur-lon)
主題與關鍵字:
射頻磁束濺鍍 緩衝層 退火處理 結晶化 光致發光 La(feb0)Ga(8fa3)SiO(fed8) LGS Radio frequency sputtering RF sputtering Annealing Crystallization Photoluminescence
描述:
來源期刊:科學與工程技術期刊
卷期:3:4 2007.12[民96.12]
頁次:頁69-76
日期:
20071200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
胡毅(Hu, Yi) 王逢偉(Wang, Feng-wei) 林和龍(Lin, Hur-lon)(20071200)。[在MgO緩衝層以射頻濺鍍法製備La(feb0)Ga(8fa3)SiO(fed8)薄膜與特性之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/3b/b6/40.html(2024/09/16瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/3b/b6/40.html
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