下顎不同局部活動義齒設計之應力分佈
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- 資料識別：
- A08003630
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 吳如惠(Wu， Ju-hui) 王兆祥(Wang， Chau-hsiang) 李惠娥(Lee， Huey-er) 杜哲光(Du， Je-kang)
- 主題與關鍵字：
- 光彈應力分析 局部活動義齒 義齒基底所分擔的應力及比率 固位裝置 Photoelastic stress analysis Removable partial denture Denture base shearing load and ratio Retainer
- 描述：
- 來源期刊:臺灣口腔醫學科學雜誌
- 卷期:23:1 2007.04[民96.04]
- 頁次:頁4-16
- 日期：
- 20070400
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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