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摻雜濃度對矽鍺異質接面雙載子電晶體直流電氣特性影響之研究
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資料識別:
A07066829
資料類型:
期刊論文
著作者:
陳啟文(Chen, Chii-Wen) 楊鎮澤(Yang, Jenn-Tzer) 何彥慶(Ho, Yen-Ching) 傅遠良(Fu, Yuan-Liang) 謝建成(Hsieh, J. C.) 李傳英(Lee, C. Y.) 葉德強(Yah, D. C.)
主題與關鍵字:
矽鍺異質接面雙載子電晶體 崩潰電壓 摻雜濃度 電流增益 自發熱效應 SiGe HBT Breakdown voltage Doping Current gain Self-heating effect
描述:
來源期刊:明新學報
卷期:33 2007.07[民96.07]
頁次:頁283-309
日期:
20070700
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
陳啟文(Chen, Chii-Wen) 楊鎮澤(Yang, Jenn-Tzer) 何彥慶(Ho, Yen-Ching) 傅遠良(Fu, Yuan-Liang) 謝建成(Hsieh, J. C.) 李傳英(Lee, C. Y.) 葉德強(Yah, D. C.)(20070700)。[摻雜濃度對矽鍺異質接面雙載子電晶體直流電氣特性影響之研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/32/be/77.html(2024/09/15瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/32/be/77.html
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