Effect of Oxidation Pressure on the Characteristics of Fluorinated Thin Gate Oxides Prepared by Room Temperature Deposition Followed by Rapid Thermal Oxidation
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- 資料識別：
- A98024375
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 葉國良(Yeh， Kuo-lang) 鄭明哲(Jeng， Ming-jer) 胡振國(Hwu， Jenn-gwo)
- 主題與關鍵字：
- Liquid phase deposition LPD Rapid thermal oxidation RTO Time-zero dielectric breakdown TZDB Charge-to-breakdown Q Oxide breakdown field E 室溫液相沉積法 快速熱氧化處理 氟 氧化層
- 描述：
- 來源期刊:Proceedings of the National Science Council. Part A， Physical Science and Engineering
- 卷期:22:4 民87.07
- 頁次:頁539-545
- 日期：
- 19980700
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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