氧化效應在銅/鉭/矽基材和銅/鉭/二氧化矽/矽基材之界面反應影響研究

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資料識別:
A00040981
資料類型:
期刊論文
著作者:
殷開明(Yin, Kai-min) 開執中(Kai, Ji-jung) 陳福榮(Chen, Fu-rong)
主題與關鍵字:
氧化 晶界擴散 擴散障礙層 銅導線製程 穿透式電子顯微鏡 Oxidation Grain-boundary diffusion Diffusion-barrier Cu metallization Transmission electron microscope
描述:
來源期刊:防蝕工程
卷期:14:2 民89.06
頁次:頁25-34
日期:
20000600
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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