高劑量離子佈植及回火後之焦化光阻的去除方法
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- 資料識別：
- A00024980
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 張連璧(Chang， L. B.) 吳國宏(Wu， K. H.) 龔定華(Kung， T. H.) 藍海(Lan， H.) 羅漢華(Lu， H. H.)
- 主題與關鍵字：
- 高劑量離子佈植 光阻剝除 焦化 回火 濕式去光阻法 Implant-hardened photoresist Thermal-hardened photoresist Wet process Photoresist stripping
- 描述：
- 來源期刊:材料科學與工程
- 卷期:32:2 民89.06
- 頁次:頁47-51
- 日期：
- 20000600
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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