The Effectiveness of Aluminum Mask for Patterning Semi-Insulating Regions on Si Wafer under MeV Proton Bombardment

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資料識別:
A00021232
資料類型:
期刊論文
著作者:
李隆盛(Lee, Lurng-shehng) 李崇仁(Lee, Chung-len) 鄧瑞理(Tang, Denny Duan-lee) 楊清田(Yang, Tsing-tyan) 林立夫(Lin, Li-fu)
主題與關鍵字:
Proton bombardment RF IC Mask Junction leakage Flatband shift Annealing 質子照射 矽晶片 鋁罩 半絕緣體
描述:
來源期刊:Proceedings of the National Science Council. Part A, Physical Science and Engineering
卷期:24:4 民89.07
頁次:頁306-309
日期:
20000700
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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