電子迴旋共振化學氣相沈積法成長石墨烯及其後處理

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A11021973
資料類型:
期刊論文
著作者:
黃昆平 賴致瑋 張志振 邱博文
主題與關鍵字:
石墨烯 電子迴旋共振 化學氣相沈積 拉曼 Graphene Electron cyclotron resonance Chemical vapor deposition Raman
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:338 2011.05[民100.05]
頁次:頁37-46
日期:
20110500
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

天下無雙 古今鮮對--晉唐法書名蹟特...
人類幹細胞研究的法議題
臺中港漁港暨濱海遊憩區植被變遷調查報...
硼含量對AlCoCrFe₂NiMo□...
LCD反射式增亮膜(DBEF)之微結...
佛國淨土與中國神話:莫高窟285窟的...