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利用低壓垂直式有機金屬化學氣相沈積法探討不同緩衝層對氮化銦薄膜成長之磊晶研究
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資料識別:
A10005496
資料類型:
期刊論文
著作者:
桂平宇(Kuei, Ping-yu) 袁子滔(Yuan, Tzu-tao) 吳建忠(Wu, Chen-chung) 林文仁(Lin, Wen-jen) 李大青(Li, Ta-ching)
主題與關鍵字:
有機金屬化學氣相沉積 載子濃度 載子遷移率 MOCVD Carrier concentration Electron mobility
描述:
來源期刊:中正嶺學報
卷期:38:1(A) 2009.11[民98.11]
頁次:頁187-199
日期:
20091100
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館
授權聯絡窗口
管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305
引用這筆典藏
引用資訊
桂平宇(Kuei, Ping-yu) 袁子滔(Yuan, Tzu-tao) 吳建忠(Wu, Chen-chung) 林文仁(Lin, Wen-jen) 李大青(Li, Ta-ching)(20091100)。[利用低壓垂直式有機金屬化學氣相沈積法探討不同緩衝層對氮化銦薄膜成長之磊晶研究]。《數位典藏與數位學習聯合目錄》。http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/56/20/37.html(2017/03/26瀏覽)。
直接連結
http://catalog.digitalarchives.tw/item/00/56/20/37.html
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