Indium Nitride Thin Film Growth Using Chemical Beam Epitaxy

推薦分享

Share

資源連結

連結到原始資料 (您即將開啟新視窗離開本站)

後設資料

資料識別:
A10020514
資料類型:
期刊論文
著作者:
葉俊樑(Yeh, Chun-liang) 陳瑞山(Chen, Reui-san) 蕭慶廉(Hsiao, Ching-lien) 吳建霆(Wu, Chien-ting) 魏百駿(Wei, Pei-chun) 陳貴賢(Chen, Kuei-hsien) 林麗瓊(Chen, Li-chyong) 周賢鎧(Jou, Shyankay)
主題與關鍵字:
Indium nitride Thin film Chemical beam epitaxy
描述:
來源期刊:真空科技
卷期:18:3 民94.12
頁次:頁96-99
日期:
20051200
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

引用這筆典藏 引用說明

引用資訊
直接連結

評分與驗證

請為這筆數位資源評分

star star star star star

推薦藏品

白話散文與雜文--《中國現代文學的兩...
常見泌尿系統疾病之中西醫診治
從西醫觀點論婦科腫瘤
探討1949到2000年臺灣花鳥畫風...
明清以來學者補《元史藝文志》成果述考
十七個灰樹花菌株遺傳多樣性的ISSR...