簡介紫外光硬化奈米轉印技術

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資料識別:
A04028602
資料類型:
期刊論文
著作者:
鄭瑞庭
主題與關鍵字:
紫外光硬化奈米轉印 電子束直寫微影技術 熱壓式奈米轉印 多層對準 殘餘光阻 E-beam direct write lithography Hot embossing nanoimprint Multi-level alignment Residual layer UV-curable nanoimprint
描述:
來源期刊:機械工業
卷期:257 民93.08
頁次:頁163-174
日期:
20040800
來源:
臺灣期刊論文索引系統
管理權:
國家圖書館

授權聯絡窗口

管理單位:知識服務組-期刊
聯絡E-mail:nclper@ncl.edu.tw
電話:02-23619132轉305

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