以微波電漿化學氣相沉積法在鑽石緩衝層上成長立方氮化硼薄膜
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- 資料識別：
- A04001759
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 楊天賜(Yang， T. S.) 賴哲永(Lai， J. Y.) 翁明壽(Wong， M. S.)
- 主題與關鍵字：
- 微波電漿化學氣相沉積法 鑽石 立方氮化硼 奈米材料 多層膜 C-BN Diamond Nanocrystalline Multilayer MPCVD
- 描述：
- 來源期刊:材料科學與工程
- 卷期:36:1 民93.03
- 頁次:頁59-63
- 日期：
- 20040300
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
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