利用電子束微影技術完成奈米尺寸圖案
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- 資料識別：
- A04017552
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 羅世嵩(Luo， Shich-song) 黃俊達(Hwang， Jun-dar) 游信強(You， Hsin-chiang) 朱育宏(Chu， Yu-hung) 柯富祥(Ko， Fu-shiang)
- 主題與關鍵字：
- 電子束微影 奈米 電子束阻劑 Electron-beam lithography Nano Electron-beam resistance
- 描述：
- 來源期刊:大葉學報
- 卷期:13:1 民93.06
- 頁次:頁95-98
- 日期：
- 20040600
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
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