IC光阻材料技術發展
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- 資料識別：
- A02038093
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 林松香 曾朝輝
- 主題與關鍵字：
- 光阻劑 光微影技術 深紫外光 真空紫外光 極紫外光 重氮 酚醛樹脂 化學增幅 感光物 光酸產生劑 奈米技術 Photoresists PR Photo microlithography Deep ultra violet DUV Vacuum ultra violet VUV Extreme ultra violet EUV DNQ Novolak Chemical amplified CA Photo active compound PAC Photo acid generator PAG Nano technology
- 描述：
- 來源期刊:工業材料
- 卷期:190 民91.10
- 頁次:頁174-177
- 日期：
- 20021000
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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