抗反射有機塗佈層應用至雙鑲嵌製程的挑戰
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- 資料識別：
- A02012775
- 資料類型：
- 期刊論文
- 著作者：
- 萬一元 Trefonas，Peter Edward，K Pavelchek Truong，Chi Wynja，Kimberly
- 主題與關鍵字：
- 雙鑲嵌 先通孔蝕刻 抗反射層 高溫型光阻 低溫型光阻 Dual damascene Via-first Antireflective coating ARC Annealing ESCAP type Acetal or hybrid acetal
- 描述：
- 來源期刊:工業材料
- 卷期:184 民91.04
- 頁次:頁175-178
- 日期：
- 20020400
- 來源：
- 臺灣期刊論文索引系統
- 管理權：
- 國家圖書館
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